Anlagen | Blitzlab

FLA01

Picture of FLA01 — Blitzlab’s FLA01 © HZDR / L. Rebohle

Hersteller: Eigenentwicklung
Substratgrößen: Durchmesser bis zu 100 mm
Tempergase: Stickstoff, Argon, Sauerstoff
Blitzmodus: Lampenfeld, Einzelpuls
Pulszeiten: 0.13 – 80 ms
Vorheizung: bis zu 800^°C
Energiedichte: bis zu 135 Jcm^-2

FLA200

Hersteller: FHR Anlagenbau GmbH
Substratgrößen: 200 mm Wafer
Tempergase: Stickstoff, Argon, Sauerstoff
Blitzmodus: Lampenfeld, Einzelpuls
Pulszeiten: 1 ms
Vorheizung: 800^°C
Energiedichte: bis zu 25 J/cm²

Picture of Blitzlab's FLA200 — Blitzlab’s FLA200 © HZDR / L. Rebohle

Sputter FLA

Picture of Sputter FLA — Blitzlab’s Sputter FLA© HZDR / L. Rebohle

Hersteller: Rovak GmbH
Substratgrößen: bis zu 300 x 200 mm²
Tempergase: Vakuum, Stickstoff, Argon, Sauerstoff
Blitzmodus: Einzellampe, Einzelpuls und Multi-Flash bis 5 Hz
Pulszeiten: 0.13 – 20 ms
Energiedichte: bis zu 100 Jcm^-2

Laserausheilung: Activationline 12

Hersteller: LIMO
Substratgrößen: bis zu 300 x 200 mm²
Wellenlänge: 808 nm, CW
max. Leistung: 450 W

Picture of Activationline12 — Laserausheilung: Activationline 12 © HZDR / L. Rebohle

Laserausheilung: COMPexPRO 201

Picture of COMPexPRO 201 — Laserausheilung: COMPexPRO 201 © HZDR / L. Rebohle

Hersteller: Coherent
Wellenlänge: 308 nm, gepulst (10 Hz)
max. Energie pro Puls: 500 mJ
Pulsdauer: 30 ns