Das BlitzLab verfügt über die folgenden Anlagen, die für Anwender zur Verfügung stehen.

FLA01

  • Hersteller:
    • Eigenentwicklung (Blitzkammer)
    • Rovak GmbH (Energiespeicher)
  • Substratgrößen: Durchmesser bis zu 100 mm
  • Tempergase: Stickstoff, Argon, Sauerstoff
  • Blitzmodus:
    • Lampenfeld
    • Einzelpuls
  • Pulszeiten: 0.65 – 20 ms
  • Vorheizung: bis zu 600°C
  • Energiedichte: bis zu 170 Jcm-2
Picture of FLA01
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Sputter FLA

  • Hersteller: Rovak GmbH
  • Substratgrößen: bis zu 300 x 200 mm2
  • Tempergase: Vakuum, Stickstoff, Argon, Sauerstof
  • Blitzmodus:
    • Einzellampe
    • Einzelpuls
    • Multi-Flash bis 5 Hz
  • Pulszeiten: 0.3 – 3 ms
  • Energiedichte: bis zu 30 Jcm-2
Picture of Sputter FLA
©HZDR

Darkbox

  • Hersteller:
    • Eigenentwicklung (Blitzkammer)
    • Rovak GmbH (Energiespeicher)
  • Substratgrößen: Durchmesser bis zu 150 mm
  • Tempergase: Stickstoff, Argon, Sauerstoff
  • Blitzmodus:
    • Lampenfeld
    • Einzelpuls
  • Pulszeiten: 0.65 – 20 ms
  • Energiedichte: bis zu 160 Jcm-2

Laserausheilung: COMPexPRO 201

  • Hersteller: Coherent
  • Wellenlänge: 308 nm, gepulst (10 Hz)
  • max. Energie pro Puls: 500 mJ
  • Pulsdauer: 30 ns
Picture of COMPexPRO 201
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R2R Bandbeschichtung

(TU Bergakademie Freiberg)

  • Hersteller: ROVAK GmbH
  • Module:
    • 1x Plasmareinigung
    • 2x Sputtern
    • 1x EB‑PVD
    • 3x FLA
    • 1x IR-Tempern
  • Rollen: Folien bis 180 mm Breite und 10 – 100 µm Schichtdicke
  • Gas: Argon, Stickstoff, Sauerstoff
  • Blitzmodus:
    • Einzellampen
    • Einzelpuls
    • Multi‑Flash bis 10 Hz
  • Pulszeiten: 0,3 bis 10 ms
  • Energiedichte: bis > 40 J/cm²

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R2R-Beschichtungsanlage ZeHS / TUBAF IEP. ©HZDR/Fotos