Anlagen

FLA01

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Blitzlab’s FLA01 © HZDR / L. Rebohle
  • Hersteller: Eigenentwicklung
  • Substratgrößen: Durchmesser bis zu 100 mm
  • Tempergase: Stickstoff, Argon, Sauerstoff
  • Blitzmodus: Lampenfeld, Einzelpuls
  • Pulszeiten: 0.13 – 80 ms
  • Vorheizung: bis zu 800°C
  • Energiedichte: bis zu 135 Jcm-2
 

FLA200

  • Hersteller: FHR Anlagenbau GmbH
  • Substratgrößen: 200 mm Wafer
  • Tempergase: Stickstoff, Argon, Sauerstoff
  • Blitzmodus: Lampenfeld, Einzelpuls
  • Pulszeiten: 1 ms
  • Vorheizung: 800°C
  • Energiedichte: bis zu 25 J/cm2
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Blitzlab’s FLA200 © HZDR / L. Rebohle
 

Sputter FLA

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Blitzlab’s Sputter FLA© HZDR / L. Rebohle
  • Hersteller: Rovak GmbH
  • Substratgrößen: bis zu 300 x 200 mm2
  • Tempergase: Vakuum, Stickstoff, Argon, Sauerstoff
  • Blitzmodus: Einzellampe, Einzelpuls und Multi-Flash bis 5 Hz
  • Pulszeiten: 0.13 – 20 ms
  • Energiedichte: bis zu 100 Jcm-2
 

Laserausheilung: Activationline 12

  • Hersteller: LIMO
  • Substratgrößen: bis zu 300 x 200 mm2
  • Wellenlänge: 808 nm, CW
  • max. Leistung: 450 W
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Laserausheilung: Activationline 12 © HZDR / L. Rebohle
 

Laserausheilung: COMPexPRO 201

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Laserausheilung: COMPexPRO 201 © HZDR / L. Rebohle
  • Hersteller: Coherent
  • Wellenlänge: 308 nm, gepulst (10 Hz)
  • max. Energie pro Puls: 500 mJ
  • Pulsdauer: 30 ns