Zum Inhalt springen
FLA01
Blitzlab’s FLA01 © HZDR / L. Rebohle
- Hersteller: Eigenentwicklung
- Substratgrößen: Durchmesser bis zu 100 mm
- Tempergase: Stickstoff, Argon, Sauerstoff
- Blitzmodus: Lampenfeld, Einzelpuls
- Pulszeiten: 0.13 – 80 ms
- Vorheizung: bis zu 800°C
- Energiedichte: bis zu 135 Jcm-2
FLA200
- Hersteller: FHR Anlagenbau GmbH
- Substratgrößen: 200 mm Wafer
- Tempergase: Stickstoff, Argon, Sauerstoff
- Blitzmodus: Lampenfeld, Einzelpuls
- Pulszeiten: 1 ms
- Vorheizung: 800°C
- Energiedichte: bis zu 25 J/cm2
Blitzlab’s FLA200 © HZDR / L. Rebohle
Sputter FLA
Blitzlab’s Sputter FLA© HZDR / L. Rebohle
- Hersteller: Rovak GmbH
- Substratgrößen: bis zu 300 x 200 mm2
- Tempergase: Vakuum, Stickstoff, Argon, Sauerstoff
- Blitzmodus: Einzellampe, Einzelpuls und Multi-Flash bis 5 Hz
- Pulszeiten: 0.13 – 20 ms
- Energiedichte: bis zu 100 Jcm-2
Laserausheilung: Activationline 12
- Hersteller: LIMO
- Substratgrößen: bis zu 300 x 200 mm2
- Wellenlänge: 808 nm, CW
- max. Leistung: 450 W
Laserausheilung: Activationline 12 © HZDR / L. Rebohle
Laserausheilung: COMPexPRO 201
Laserausheilung: COMPexPRO 201 © HZDR / L. Rebohle
- Hersteller: Coherent
- Wellenlänge: 308 nm, gepulst (10 Hz)
- max. Energie pro Puls: 500 mJ
- Pulsdauer: 30 ns